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    日本 Filgen 自動等離子體鍍膜機 OPC-EVO:先進工藝與廣泛應用

    發布時間: 2025-09-17  點擊次數: 104次

    一、技術參數

    日本 Filgen 自動等離子體鍍膜機 OPC-EVO 是一款高性能的真空鍍膜設備,其技術參數如下:
    • 真空室尺寸:提供多種規格的真空室,以滿足不同尺寸工件的鍍膜需求。
    • 加熱溫度:最高加熱溫度可達 600°C,確保各種材料的均勻加熱和沉積。
    • 真空泵抽速:高低真空泵抽速可調,確保鍍膜過程中真空環境的穩定。
    • 膜厚控制精度:采用高精度膜厚控制儀,控制精度可達納米級別。
    • 離子源類型:配備射頻離子源(RF 離子源),具有無燈絲損耗、壽命長、離子密度高、工作氣壓范圍寬等特點。

    二、應用場景

    (一)半導體領域

    OPC-EVO 在半導體制造中發揮著重要作用。通過等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術,可制備高質量的半導體薄膜,如 Si、Ge 等。這些薄膜在半導體芯片的制造中用于形成絕緣層、保護層和導電層,確保芯片的高性能和可靠性。

    (二)光學領域

    在光學領域,OPC-EVO 可用于制備光學薄膜,如 ITO 透明導電膜。這些薄膜廣泛應用于光學鏡片、顯示器、太陽能電池等領域,用于提高光學性能和導電性能。

    (三)柔性電子領域

    柔性電子薄膜的制備也是 OPC-EVO 的重要應用之一。通過精確控制鍍膜參數,可制備出具有良好柔韌性和導電性的薄膜,用于可穿戴設備、柔性顯示器等新興領域。

    (四)材料表面改性

    OPC-EVO 還可用于材料表面改性,如硬化和耐腐蝕處理。通過離子輔助沉積技術,可在材料表面形成一層高硬度、高耐腐蝕性的薄膜,延長材料的使用壽命。

    三、工藝流程

    (一)前處理

    在鍍膜前,需要對工件進行嚴格的前處理,以確保鍍層與基材的良好結合。前處理通常包括以下步驟:
    • 熱浸脫脂:利用堿性溶液去除工件表面的油脂和氧化物。
    • 電解脫脂:通過電解作用進一步去除工件表面的污垢。
    • 活化:利用酸洗等方法去除工件表面的氧化物,使表面活化。

    (二)鍍膜

    前處理完成后,將工件放入真空室中,通過射頻離子源產生高密度等離子體,進行鍍膜操作。在鍍膜過程中,通過精確控制離子源參數、氣體流量和真空度,確保鍍層的均勻性和質量。

    (三)后處理

    鍍膜完成后,需要對工件進行后處理,如干燥和檢驗。干燥過程中,確保工件表面的鍍層固化。檢驗環節則對鍍層的厚度、均勻性、結合力等進行檢測,確保鍍膜質量符合要求。
    日本 Filgen 自動等離子體鍍膜機 OPC-EVO 憑借其先進的技術參數和廣泛的工藝應用,已成為半導體、光學、柔性電子等領域的設備。其高精度的膜厚控制和穩定的真空環境,確保了高質量鍍膜的實現,為現代科技的發展提供了有力支持。


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