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    日本大冢電子SF-3晶圓膜厚儀的技術解析

    發布時間: 2025-07-14  點擊次數: 198次
      日本大冢電子(Otsuka)生產的SF-3小型晶圓膜厚儀是一種專為半導體制造領域設計的精密測量設備。該設備采用分光干涉法實現高精度的膜厚測量,具有非接觸式、非破壞性的特點,適用于硅晶圓、玻璃等基材的厚度測量。SF-3膜厚儀的測量范圍廣泛,從0.1 μm到1600 μm,能夠滿足不同厚度測量需求。其測量精度高,重復精度達到0.001%以下,測量時間僅需10毫秒,展現了測量效率和準確性。
     
      SF-3膜厚儀的設計緊湊,體積小,安裝簡便,非常適合集成到生產線中。它能夠實現長距離工作(Working Distance),從3 mm到200 mm,使得在不同生產環境中的安裝和使用更加靈活。此外,該設備還支持多層厚度測量,即使在短暫貼合的情況下也能準確測量各層厚度,這對于3D IC堆疊等先進封裝技術尤為重要。
     
      SF-3膜厚儀還具備高速測量能力,最快可達5kHz,能夠實時監控研磨厚度,這對于提高生產效率和產品質量具有重要意義。設備通過LAN接口實現遠程控制,方便與Host系統連接,實現自動化生產流程。
     
      總的來說,SF-3小型晶圓膜厚儀以其高精度、高效率和靈活性,在半導體制造領域發揮著重要作用,是實現精確膜厚控制的理想選擇。
     
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